作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物

摘要

露者为式1化合物(包括所有立体异构物)、其N-氧化物及盐类，

其中Q、Z、R2、R3与m系如本揭露中所定义者。

主权项

一种选自式1、其N-氧化物及盐类之化合物，

Q为5员或6员芳族杂环，其透过碳原子键结至式1的其余部分，并且选择性地经1至4个R1取代；Z为O或S；各R1独立为卤素、氰基、硝基、SF5、CHO、C(=O)NH2、C(=S)NH2、SO2NH2、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤烷基、C2-C4卤烯基、C2-C4卤炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤环烷基、C4-C8烷环烷基、C4-C8环烷烷基、C2-C6烷羰基、C2-C6卤烷羰基、C2-C6烷氧羰基、C3-C7环烷羰基、C2-C8烷胺羰基、C3-C10二烷胺羰基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤烷氧基、C3-C4卤烯氧基、C3-C4卤炔氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤环烷氧基、C4-C8环烷烷氧基、C2-C6烷氧烷基、C2-C6卤烷氧烷基、C2-C6烷氧卤烷基、C2-C6烷氧烷氧基、C2-C4烷羰基氧基、C2-C6氰烷基、C2-C6氰烷氧基、C1-C4羟烷基、C2-C4烷硫烷基、SOnR1A、Si(CH3)3或B(-OC(R1B)2C(R1B)2O-)；或选择性地经至多5个独立选自R1C之取代基取代的苯环；或5员或6员杂芳环，该
杂芳环含有选自碳原子及至多4个杂原子的环员，该等杂原子系独立选自至多2个O、至多2个S及至多4个N原子，各环选择性地经至多3个取代基取代，该等取代基系独立选自碳原子环员上的R1C及氮原子环员上的R1D；R2为卤素、氰基、硝基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、SOnR2A、C1-C4卤烷基或C3-C6环烷基；各R3独立为卤素、氰基、羟基、硝基、胺基、CHO、C(=O)NH2、C(=S)NH2、SO2NH2、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤烷基、C2-C4卤烯基、C2-C4卤炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤环烷基、C4-C8烷环烷基、C4-C8环烷烷基、C2-C6烷羰基、C2-C6卤烷羰基、C2-C6烷氧羰基、C3-C7环烷羰基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤烷氧基、C3-C4卤烯氧基、C3-C4卤炔氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤环烷氧基、C4-C8环烷烷氧基、C2-C6烷氧烷基、C2-C6卤烷氧烷基、C2-C6烷氧卤烷基、C2-C6烷氧烷氧基、C2-C4烷羰基氧基、C2-C6氰烷基、C2-C6氰烷氧基、C2-C4烷硫烷基、Si(CH3)3、C≡CSi(CH3)3、C(=O)N(R3A)(R3B)、C(=NOR3C)H、C(=NR3D)H、SOnR3E；或选择性地经至多5个独立选自R3F之取代基取代之苯环；或5员或6员杂芳环，该杂芳环含有选自碳原子及至多4个杂原子的环员，该等杂原子系独立选自至多2个O、至多2个S及至多4个N原子，各
环选择性地经至多3个取代基取代，该等取代基系独立选自碳原子环员上的R3F及氮原子环员上的R3G；或嘧啶氧基；m为0、1、2或3；各n独立为0、1或2；各R1A、R2A及R3E独立为C1-C4烷基、C1-C4卤烷基、C1-C4烷胺基或C2-C6二烷胺基；各R1B独立为H或C1-C4烷基；各R1C独立为羟基、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤烷基、C1-C6烷氧基或C1-C6卤烷氧基；各R1D独立为氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤烷基、C1-C6烷氧基或C2-C6烷羰基；各R3A独立为C1-C4烷基或C1-C4卤烷基；各R3B独立为H、C1-C4烷基或C1-C4卤烷基；各R3C独立为H或C1-C4烷基；各R3D独立为H、胺基、C1-C4烷基或C1-C4烷胺基；各R3F独立为羟基、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤烷基、C1-C6烷氧基或C1-C6卤烷氧基；以及各R3G独立为氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤烷基、C1-C6烷氧基或C2-C6烷羰基。