发明名称 积层薄膜与电极基板薄膜及此等之制造方法
摘要 明课题在于提供一种在高辉度照明下,包含金属制细线之电路图案也不易被看到的电极基板薄膜及用于其之积层体薄膜。 解决手段为,具有透明基板52及金属制之积层细线的电极基板薄膜,其特征为:积层细线系具有线宽为20μm以下且由透明基板侧数来为第1层的膜厚为20nm以上30nm以下的金属吸收层51及第2层之金属层50,可见光波长区域(400~780nm)之金属吸收层的光学常数中,波长400nm的折射率为2.0~2.2、消光系数为1.8~2.1、波长500nm的折射率为2.4~2.7、消光系数为1.9~2.3、波长600nm的折射率为2.8~3.2、消光系数为1.9~2.5、波长700nm的折射率为3.2~3.6、消光系数为1.7~2.5、波长780nm的折射率为3.5~3.8、消光系数为1.5~2.4,透明基板与金属吸收层的界面反射所产生之可见光波长区域的平均反射率为20%以下,可见光波长区域的最高穿透率与最低穿透率的差为10%以下。
申请公布号 TW201613758 申请公布日期 2016.04.16
申请号 TW104127614 申请日期 2015.08.25
申请人 住友金属鑛山股份有限公司 发明人 大上秀晴
分类号 B32B15/08(2006.01);B32B15/02(2006.01);B32B5/08(2006.01);H05K1/09(2006.01);H05K3/02(2006.01) 主分类号 B32B15/08(2006.01)
代理机构 代理人 丁国隆;黄政诚
主权项 一种积层体薄膜,其系以包含树脂薄膜之透明基板与设于该透明基板之积层膜所构成的积层体薄膜,其特征为:上述积层膜系具有由透明基板侧数来为第1层的膜厚为20nm以上30nm以下的金属吸收层及第2层之金属层,而且,可见光波长区域(400~780nm)之上述金属吸收层的光学常数中,波长400nm下的折射率为2.0~2.2、消光系数为1.8~2.1、波长500nm下的折射率为2.4~2.7、消光系数为1.9~2.3、波长600nm下的折射率为2.8~3.2、消光系数为1.9~2.5、波长700nm下的折射率为3.2~3.6、消光系数为1.7~2.5、波长780nm下的折射率为3.5~3.8、消光系数为1.5~2.4,同时,透明基板与金属吸收层及金属吸收层与金属层之各界面处的反射所产生之可见光波长区域(400~780nm)的平均反射率为20%以下,且可见光波长区域(400~780nm)的最高穿透率与最低穿透率的差为10%以下。
地址 日本