于抗蚀剂应用中作为光酸生成剂之磺酸衍生化合物

摘要

明提供新颖光酸生成剂化合物。亦提供包括该等新颖光酸生成剂化合物之光阻组合物。本发明进一步提供制造及使用本文所揭示之该等光酸生成剂化合物及光阻组合物之方法。该等化合物及组合物在用于多种微制造应用之化学增幅型抗蚀剂组合物中用作光敏性组分。

主权项

一种由式(I)或式(II)表示之磺酸衍生化合物，

其中X为氧(O)或硫(S)原子；R1、R2、R3、R4及R5各自为氢(H)原子；R0选自由以下组成之群：具有1至3之碳数的脂族基团，其中一或多个氢原子可经卤素原子取代；具有2至18之碳数的脂族基团，其包含至少一个选自由-S-、-C(=O)-S-、-O-S(=O)2-、-O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-C(=O)-NRa-及-C(=O)-NRaRb组成之群的部分，其中Ra及Rb各自独立地为具有1至10之碳数的脂族基团，其可相同或不同且可连接以形成脂环基团，且其中该脂族基团视情况包含至少一个卤素原子；及由式(A)表示之基团：
-R11-Ar (A)，其中R11为单键或具有1至20之碳数的脂族基团，其可包含至少一个选自由-O-、-S-、-C(=O)-O-、-C(=O)-S-、-O-S(=O)2-、-O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-O-C(=O)-NH-、-C(=O)-NRa-及C(=O)-NRa-组成之群的部分，其中Ra如上文所定义，且其中若该至少一个部分是多于一个，则可由脂族基团分隔；且Ar为芳基或杂芳基，其中一或多个氢原子可经卤素原子、脂族、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫基、双烷胺基、醯氧基、醯硫基、醯胺基、烷氧基羰基、烷基磺醯基、烷基亚磺醯基、脂环、杂环、芳基、烷芳基、氰基或硝基取代；由式(B)表示之基团：

其中R21及R22各自独立地为具有1至5之碳数的脂族基团；Y21为氧(O)原子；R23为具有1至10之碳数的脂族基团；且R24为具有1至18之碳数的脂族基团，其包含至少一个选自由-O-、-S-、-C(=O)-S-、-O-S(=O)2-、-O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-O-C(=O)-NH-、-C(=O)-NRa-、-O-C(=O)-NRa-及-C(=O)-NRaRb组成之群的部分，其中Ra及Rb如上文所定义，且其中若该至少一个部分是多于一个，则可藉由脂族基团分隔；由式(C)表示之基团：

其中R31为具有2至18之碳数的脂族基团，其可包含至少一个选自由-O-、-S-、-C(=O)-S-、-O-S(=O)2-、-O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-O-C(=O)-NH-、-C(=O)-NRa-及-O-C(=O)-NRa-组成之群的部分，其中Ra如上文所定义，且其中若该至少一个部分是多于一个，则可由脂族基团分隔；Y31为氧(O)原子；R32为具有1至18之碳数的脂族基团，其包含至少一个选自由-O-、-S-、-C(=O)-O-、-C(=O)-S-、-O-S(=O)2-、-O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-O-C(=O)-NH-、-C(=O)-NRa-、-O-C(=O)-NRa-及-C(=O)-NRaRb组成之群的部分，其中Ra及Rb如上文所定义，且若其中该至少一个部分是多于一个，则可由脂族基团分隔；且R6选自由以下组成之群：具有1至18之碳数的脂族基团，其可经一或多个卤素原子取代；具有3至18之碳数的脂族基团，其包含至少一个选自由-O-、-S-、-C(=O)-O-、-C(=O)-S-、-O-S(=O)2-、-O-C(=O)-O-、-C(=O)-NH-、-O-C(=O)-NH-、-C(=O)-NRa-、-O-C(=O)-NRa-及-C(=O)-NRaRb组成之群的部分，其中Ra及Rb如上文所定义，其中该脂族基团视情况包含至少一个卤素原子；具有4至18之碳数的芳基或杂芳基，其中一或多个氢原子可经卤素原子、脂族、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫基、双烷胺基、醯氧基、醯硫基、醯胺基、烷氧基羰基、烷基磺醯基、烷基亚磺醯基、脂环、杂环、芳基、烷芳
基、氰基或硝基取代；及具有4至18之碳数的芳烷基或杂芳烷基，其中该芳基或杂芳基中之一或多个氢原子可经卤素原子、脂族、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫基、双烷胺基、醯氧基、醯硫基、醯胺基、烷氧基羰基、烷基磺醯基、烷基亚磺醯基、脂环、杂环、芳基、烷芳基、氰基或硝基取代。