发明名称 曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
摘要 影光学系统PL射入液体LQ之曝光用光当中,射入光透过部44之曝光用光,以不通过气体中的方式射入并会聚于光学构件41。曝光装置,即使投影光学系统的数值孔径增大亦能接收来自投影光学系统之曝光用光,而能进行各种测量。
申请公布号 TW201614715 申请公布日期 2016.04.16
申请号 TW104142243 申请日期 2004.09.29
申请人 尼康股份有限公司 发明人 西永寿;引间郁雄;中川正弘;荻原恒幸;水野恭志;北尙宪;谷津修;江村望;丰田光纪
分类号 H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项 一种曝光装置,系使曝光用光透过液体而照射于基板上,藉此使该基板曝光,其特征在于具备:投影光学系统;及测量装置,具有:光透过部,设置于该投影光学系统之像面侧;及受光器,透过该光透过部来接收通过该投影光学系统的曝光用光;该测量装置之受光器,在该投影光学系统与光透过部间未存在液体的状态下,接收通过该光透过部及投影光学系统的曝光用光。
地址 日本