发明名称 |
用于3D图案成形的数位灰色调微影技术 |
摘要 |
明描述一种处理基板的方法。该方法包括将基板定位于阶台上,阶台与无遮罩直写图案产生器相关联。基板具有未开发、未暴露的光阻层形成于其上。光阻层具有复数个写入像素位置。该方法包括将预定用量的电磁能从图案产生器传送至各写入像素位置。第一预定用量系全色调用量,且第一预定用量被传送到至少一个写入像素位置。第二预定用量系部分色调用量,且第二预定用量被传送到至少一个写入像素位置。第三预定用量系部分色调用量或零色调用量。第三预定用量被传送到至少一个写入像素位置,且第三预定用量不同于第二预定用量。
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申请公布号 |
TW201614379 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
申请号 |
TW104124773 |
申请日期 |
2015.07.30 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
班却尔克里斯多夫丹尼斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
一种处理一基板的方法,该方法包括以下步骤:将一基板定位于一阶台上,该阶台与一无遮罩直写图案产生器相关联,其中该基板具有一未开发、未暴露的光阻层形成于该基板上,及其中该光阻层具有复数个写入像素位置;及将第一、第二与第三预定用量的电磁能从该图案产生器传送至该光阻层的各写入像素位置;其中该第一预定总用量系一全色调用量,且该第一预定用量被传送至一第一组的写入像素位置;及其中该第二预定总用量系一部分色调用量,且该第二预定用量被传送至一第二组的写入像素位置;及其中该第三预定总用量系一部分色调用量或一零色调用量,该第三预定用量被传送至一第三组的写入像素位置,且该第三预定用量不同于该第二预定用量。
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地址 |
美国 |