发明名称 基板局部的自动分析装置及分析方法
摘要 明之目的在于提供一种可将ICP-MS所进行之基板的局部分析予以自动化之分析装置。
申请公布号 TW201614234 申请公布日期 2016.04.16
申请号 TW104125770 申请日期 2015.08.07
申请人 埃耶士股份有限公司;信越半导体股份有限公司 发明人 川端克彦;一之瀬达也;今井利彦
分类号 G01N27/62(2006.01) 主分类号 G01N27/62(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项 一种基板局部的自动分析装置,系包括:供给分析液之泵;局部分析用喷嘴,将从前述泵所供给之分析液喷出至基板表面的预定区域,使预定区域内的分析对象物移往分析液,并采收该分析液而藉此回收分析对象物;雾化器,藉由负压来吸引前述局部分析用喷嘴内之包含分析对象物之分析液;以及感应耦合电浆质谱分析装置,对于从前述雾化器所送液之分析液中所包含之分析对象物进行分析;前述局部分析用喷嘴系具有:分析液供给手段,将分析液喷出至基板上;分析液排出手段,从基板上将包含分析对象物之分析液采收至局部分析用喷嘴内并往雾化器送液;以及排气手段,以局部分析用喷嘴内作为排气路径;并具有:自动送液手段,将被引入至局部分析用喷嘴之包含分析对象物之分析液,自动地送液至感应耦合电浆质谱分析装置;并具有:流量调整手段,调整从泵供给至局部分析用喷嘴之分析液的流量、与从局部分析用喷嘴送液至雾化器之分析液的流量;并具有:自动控制手段,以同时进行的方式来进行局部分析用喷嘴所进行之分析液的采收与感应耦合电浆质谱分析装置所进行之分析对象物的分析,而连续地自动分析基板之相邻接的复数个预定区域。
地址 日本;日本