| 发明名称 |
藉由电浆辅助原子层沉积使用矽前驱物与有机共反应物在矽基薄膜中的碳及／或氮倂入 |
| 摘要 |
揭示用于使用有机反应物、矽前驱物及电浆沉积含矽薄膜之方法。
|
| 申请公布号 |
TW201614713 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
| 申请号 |
TW104123112 |
申请日期 |
2015.07.16 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
萨利马克;汤普森大卫;卡契恩洁西卡瑟凡恩 |
| 分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
蔡坤财;李世章 |
| 主权项 |
一种用于在一基板上沉积一薄膜的方法，该方法包括以下步骤：将该基板之至少一部分曝露于一含矽前驱物以形成一含矽薄膜；将该含矽薄膜曝露于一有机反应物以形成一矽碳薄膜或一矽硼薄膜中之一或多者；及将该含矽薄膜或该矽碳薄膜或该矽硼薄膜中之一或多者曝露于一电浆。
|
| 地址 |
美国 |
