发明名称 PHOTOSENSITIVE-RESIN COMPOSITION
摘要 [과제] 레지스트 형상이 우수하며, 해상성이 우수한 패턴을 형성할 수 있으며, 내PCT성(내습열성), 내리플로우성, 전기 절연성(HAST내성), 및 무전해 도금내성에 더하여, 내열성, 내용제성, 내약품성(내알칼리성, 내산성), 및 밀착성이 우수한 패턴을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물, 이를 사용한 영구 마스크 레지스트, 및 그 영구 마스크 레지스트를 구비하는 프린트 배선판을 제공하는 것. [해결 수단] (A)산변성 비닐기 함유 에폭시 수지, (B)광중합 개시제, (C)함질소복소환 화합물, 및 (D)광중합성 화합물을 함유하고, 그 (C)함질소복소환 화합물의 평균 입자 지름이 0.01∼10㎛인 감광성 수지 조성물, 이를 사용한 영구 마스크 레지스트, 및 프린트 배선판이다.
申请公布号 KR20160040474(A) 申请公布日期 2016.04.14
申请号 KR20157037169 申请日期 2014.08.01
申请人 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. 发明人 FUSE YOSHIAKI;YOSHINO TOSHIZUMI;KOJIMA MASAYUKI;OOSAKI SHINYA;SATOU KUNIAKI
分类号 G03F7/027;C08F290/14;C08G59/50;C08L63/04;G03F7/004;G03F7/029;G03F7/038;H05K1/03;H05K3/06;H05K3/28 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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