发明名称 |
CONDUCTIVE INTERCONNECT STRUCTURES INCORPORATING NEGATIVE THERMAL EXPANSION MATERIALS AND ASSOCIATED SYSTEMS, DEVICES, AND METHODS |
摘要 |
음의 팽창(NTE) 물질을 포함하는 인터커넥트를 가진 반도체 디바이스가 여기서 개시된다. 일 실시예에서, 반도체 디바이스는 기판을 통해 적어도 부분적으로 연장되는 개구부를 가진 기판을 포함한다. 양의 열팽창계수(CTE)를 가진 전도 물질이 개구부를 부분적으로 충전한다. 음의 CTE를 가진 음의 열챙창(NTE) 물질이 또한 개구부를 부분적으로 충전한다. 일 실시예에서, 전도 물질은 구리를 포함하고, NTE 물질은 지르코늄 텅스테이트를 포함한다. |
申请公布号 |
KR20160040661(A) |
申请公布日期 |
2016.04.14 |
申请号 |
KR20167005692 |
申请日期 |
2014.07.30 |
申请人 |
MICRON TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
LI HONGQI;JINDAL ANURAG;LU JIN;RAMALINGAM SHYAM |
分类号 |
H01L21/768;H01L21/324;H01L23/48 |
主分类号 |
H01L21/768 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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