| 摘要 |
본 발명은 도금강판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 도금 조성물 총 중량에 대하여 Al: 0.5wt% ~ 20wt%, Mg: 0.5wt% ~ 4wt%, Si: 0.01wt% ~ 0.06wt% 및 잔부 Zn과 불가피 불순물을 포함하고, 식 0.03Al[wt%] + 0.01Mg[wt%] - 7.4Si[wt%] - 0.02Al[wt%]Mg[wt%] + 4.8Mg[wt%]Si[wt%] - 0.15 < 0.1을 만족하는 도금 조성물에 의해 형성되는 도금층을 포함하며, 가공성과 용접성이 우수한 고내식 도금강판이 제공된다. |
