METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND PROGRAM

摘要

본 발명은 기판 위에 형성되는 막의 특성을 향상시킴과 함께, 제조 스루풋을 향상시킬 수 있는 반도체 장치의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 제조 방법은 기판에 원료 가스를 공급하는 공정과, 플라즈마 생성 영역에 반응 가스를 공급하는 공정과, 상기 플라즈마 생성 영역에 고주파 전력을 공급하는 공정과, 상기 반응 가스를 공급하기 전의 상기 플라즈마 생성 영역 내의 압력을 제1 압력으로 하고, 상기 반응 가스와 상기 고주파 전력이 공급된 상태에서, 상기 제1 압력보다 낮은 제2 압력으로 조정하여 상기 반응 가스의 플라즈마를 생성하는 공정을 갖는다.