| 摘要 |
【課題】ウエハの端部を含むウエハ表面、裏面の所望の位置に選択的かつ適切に疎水化処理を行なうことができる疎水化処理装置を提供する【解決手段】処理容器内に載置された基板の表面に疎水化ガスを供給して当該基板をガス処理する疎水化処理装置であって、処理容器と、基板を載置する載置台と、前記載置台上の基板の上方から当該基板に対して処理ガスを供給する第１のガス供給部と、前記載置台上の基板の周縁部に沿って形成され、基板の周縁部近傍に下降流を形成するための複数の排気孔が形成された排気リングと、前記排気リングを介して、処理容器内の雰囲気を排気する排気機構とをそなえた。【選択図】図４ |
