| 摘要 |
본 발명은 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치를 위한 거울에 관한 것이다. 본 발명에 따른 거울(10, 20, 30, 40)은 광학적 유효 표면(10a, 20a, 30a, 40a), 거울 기판(11, 21, 31, 41) 및 광학적 유효 표면(10a, 20a, 30a, 40a) 상에 충돌하는 전자기 방사선을 반사하기 위한 반사 층 스택(14, 24, 34, 44)을 가지며, 갈륨 III 니트라이드로 구성되는 층(13, 23, 33, 43)이 거울 기판(11, 21, 31, 41)과 반사 층 스택(14, 24, 34, 44) 사이에 배열되고, 그룹 III 니트라이드는 갈륨 니트라이드(GaN), 알루미늄 니트라이드(AlN) 및 알루미늄 갈륨 니트라이드(AlGaN)를 포함하는 그룹으로부터 선택된다. |
