发明名称 - - - CHARGE-TRAP MEMORY CELL METHOD OF FABRICATING A CHARGE-TRAP MEMORY CELL AND SYSTEM HAVING A CHARGE-TRAP MEMORY CELL
摘要 3D 전하-트랩 메모리 셀을 제조하는 방법, 이를 포함하는 장치 및 시스템이 기재되어 있다. 전도성 물질과 절연 물질의 교호층들에 의해 형성되는 평면 적층체에, 실질적으로 수직형인 개구가 형성될 수 있다. 상기 수직형인 개구의 내부에는, 제1층, 전하-트랩층, 터널링 산화물층 및 에피택셜 실리콘 부분을 포함하는 실질적으로 수직형인 구조체가 형성될 수 있다. 또한, 추가적인 실시예도 기재되어 있다.
申请公布号 KR101612453(B1) 申请公布日期 2016.04.14
申请号 KR20127006370 申请日期 2010.08.25
申请人 마이크론 테크놀로지, 인크. 发明人 라마스와미, 니르말;산두, 구르테지 에스.
分类号 H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
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