| 摘要 |
분산제를 전혀 함유하지 않거나, 함유해도 그 함유량이 매우 적은 CNT 등의 탄소 재료막을 용이하게 형성할 수 있는 분산제 함유 탄소 재료막, 및, 그 분산제 함유 탄소 재료막을 사용한 패턴화 탄소 재료막 등의 탄소 재료막의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 하는 것으로, 그 분산제 함유 탄소 재료막은, 광응답성을 갖고, 하기 일반식 (Ⅰ) 로 나타내는 스틸벤계 또는 아조벤젠계 분산제를 함유하는 것을 특징으로 한다.[식 중, R∼ R은, 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 직사슬형 혹은 탄소수 3 ∼ 6 의 분기형 알킬기이다. A 는 탄소 원자 또는 질소 원자이다. X 는 아니온이다. n 은 nX 가 －2 가가 되는 수이다.] |
