发明名称 Electroless copper plating solution composition and methods of plating copper using the same
摘要 본 발명은 포름알데히드를 환원제로 사용하지 않으면서 도금액의 안정성을 향상시킬 수 있는 무전해 구리 도금액 조성물 및 이를 이용한 무전해 구리 도금방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 관점에 의하면, 시안화합물 및 포름알데히드를 함유하지 않으며, 알데히드의 유도체; 알데히드기 또는 케톤기를 가진 환원당; 및 인산염 유도체;로 이루어진 군에서 선택된 적어도 둘 이상을 함유하는 무전해 구리 도금액 조성물이 제공된다.
申请公布号 KR101612476(B1) 申请公布日期 2016.04.14
申请号 KR20140161035 申请日期 2014.11.18
申请人 한국생산기술연구원 发明人 이홍기;전준미;허진영
分类号 C23C18/16;C23C18/38 主分类号 C23C18/16
代理机构 代理人
主权项
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