| 发明名称 | 一种钨化学气相沉积系统的清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种钨化学气相沉积系统的清洗方法，通过使用硅片达到保护加热器的目的，使得在等离子体清洗时，减少了对加热器的损耗，延长了加热器的使用寿命，并节省了原有方法由于打磨或更换加热器后需要对仪器进行调整所需的时间，从而的节省了人力财力，大大提高了生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN102691050B | 申请公布日期 | 2016.04.13 |
| 申请号 | CN201210191411.4 | 申请日期 | 2012.06.11 |
| 申请人 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 梁海林;牟善勇;姜国伟;罗杰 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/06(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 郑玮 |
| 主权项 | 一种钨化学气相沉积系统的清洗方法，其特征在于，包括：在反应腔中载入硅片到加热器上，以在清洗时保护加热器；清洗反应腔。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||