发明名称 |
用于制造绝缘栅双极晶体管的方法 |
摘要 |
提供一种用于制造绝缘栅双极晶体管(10)的方法,其包括在发射极侧(65)与集电极侧(45)之间的第一导电类型的漂移层(3),其中栅电极(7)和发射极电极(8)布置在发射极侧(65),而集电极侧与发射极侧(65)相对,集电极电极(9)布置在集电极侧(45)。该制造方法包括以下顺序的制造步骤:-确定第二导电类型的衬底(1),第二导电类型与第一导电类型相反,衬底具有第一侧和与第一侧相对的第二侧(12,14),-通过施加掺杂剂在第一侧(12)上创建第一导电类型的第一层(25),-在第一层(25)上创建第一导电类型的漂移层(3),漂移层(3)具有低的掺杂浓度,-扩散离子使得创建具有缓冲层厚度(22)的缓冲层(2),其中缓冲层(2)具有比漂移层(3)更高的掺杂浓度,-在漂移层(3)上创建第二导电类型的基极层(5),-在基极层(5)上创建第一导电类型的发射极层(6),-在第二侧(14)上减薄(48)衬底(1)使得衬底的保留部分形成集电极层(4)。 |
申请公布号 |
CN105493289A |
申请公布日期 |
2016.04.13 |
申请号 |
CN201480018670.4 |
申请日期 |
2014.03.28 |
申请人 |
ABB技术有限公司 |
发明人 |
M·拉希莫;M·安登纳 |
分类号 |
H01L29/08(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/08(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
叶晓勇;王传道 |
主权项 |
一种用于制造绝缘栅双极晶体管(10)的方法,其包括在发射极侧(65)与集电极侧(45)之间的第一导电类型的漂移层(3),其中栅电极(7)和发射极电极(8)布置在所述发射极侧(65),而所述集电极侧与所述发射极侧(65)相对,集电极电极(9)布置在所述集电极侧(45),其中制造方法包括以下顺序的制造步骤:‑确定第二导电类型的衬底(1),所述第二导电类型与所述第一导电类型相反,所述衬底具有第一侧和与所述第一侧相对的第二侧(12,14),‑通过施加所述第一导电类型的掺杂剂在所述第一侧(12)上创建所述第一导电类型的第一层(25),‑在所述第一层(25)上创建所述第一导电类型的漂移层(3),所述漂移层(3)具有低掺杂浓度,‑扩散所述掺杂剂使得创建具有缓冲层厚度(22)的缓冲层(2),其中所述缓冲层(2)具有比所述漂移层(3)更高的掺杂浓度,‑在所述漂移层(3)上创建所述第二导电类型的基极层(5),‑在所述基极层(5)上创建所述第一导电类型的发射极层(6),‑在所述第二侧(14)上减薄(48)所述衬底(1)使得所述衬底的保留部分形成集电极层(4)。 |
地址 |
瑞士苏黎世 |