曝光装置、曝光方法、及元件制造方法

摘要

一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。

主权项

一种曝光装置，通过投影光学系统用照明光曝光基板，其特征在于其具备：支撑该投影光学系统的框架构件；与该投影光学系统分离地设置于该框架构件，检测该基板的标记的检测系统；分别具有反射型格子的多个格子构件，该多个格子构件以使该反射型格子与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地排列的方式支撑于该框架构件；配置于该投影光学系统及该检测系统的下方的基座；配置于该基座上，具有保持该基板的保持具，且可在该多个格子构件的下方移动的载台；以使该基板分别与该投影光学系统及该检测系统对向配置的方式移动该载台的驱动系统；编码器系统，具有设置于该载台且分别从该多个格子构件的下方对该多个格子构件照射光束的多个读头，该编码器系统测量该载台的位置资讯；以及基于该编码器系统测量到的位置资讯，控制该驱动系统的控制装置，该多个格子构件经由挠曲构件支撑于该框架构件。