| 发明名称 | PECVD机台和系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种PECVD机台和PECVD系统，该PECVD机台包括：真空腔、容器和真空泵，质量流量计以及若干管道；其中，所述质量流量计设置在所述容器的进气管道上；所述容器通过管道与所述真空腔相连，所述真空腔通过管道与所述真空泵相连；所述PECVD机台还包括一个第一气动阀，所述第一气动阀位于所述质量流量计的进气管道上。由于本发明提供的PECVD机台中，在质量流量计的前面设置气动阀，这样不但可以降低气体对质量流量计的冲击，而且在质量流量计零点发生漂移时，能够保证气体会隔离在该气动阀之前，而不会提前进入到质量流量计与容器之间。这样就避免了氦气失真，进而避免由此产生的圆片效应。 | ||
| 申请公布号 | CN105483653A | 申请公布日期 | 2016.04.13 |
| 申请号 | CN201410479001.9 | 申请日期 | 2014.09.18 |
| 申请人 | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 | 发明人 | 彭亮;崔晓娟;徐锋 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/513(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨 |
| 主权项 | 一种等离子化学气相积淀PECVD机台，其特征在于，包括：真空腔、容器和真空泵，质量流量计以及若干管道；其中，所述质量流量计设置在所述容器的进气管道上；所述容器通过管道与所述真空腔相连，所述真空腔通过管道与所述真空泵相连；所述PECVD机台还包括一个第一气动阀，所述第一气动阀位于所述质量流量计的进气管道上。 | ||
| 地址 | 100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦 | ||