预清洗腔室及半导体加工设备

摘要

本发明提供一种预清洗腔室及半导体加工设备，其包括采用绝缘材料制成的顶盖，在顶盖下表面设置有槽部，用以阻断附着在顶盖下表面的残留物形成闭合回路；并且，在槽部下方还设置有采用绝缘材料制作的阻挡件，阻挡件用于阻挡残留物进入槽部内。本发明提供的预清洗腔室，其不仅可以避免射频能量在顶盖上产生欧姆损耗，从而可以减少清洗顶盖的频次、降低设备成本且提高设备产能，而且还可以实现金属刻蚀，从而可以扩大预清洗腔室的工艺窗口范围。

主权项

一种预清洗腔室，包括采用绝缘材料制成的顶盖，其特征在于，在所述顶盖下表面设置有槽部，用以阻断附着在所述顶盖下表面的残留物形成闭合回路；并且，在所述槽部下方还设置有采用绝缘材料制作的阻挡件，所述阻挡件用于阻挡残留物进入所述槽部内。