发明名称 n型SiC单晶及其制造方法
摘要 提供具有低电阻率且贯穿位错密度小的n型SiC单晶。该n型SiC单晶为包含锗和氮的n型SiC单晶,其中锗与氮的密度比[Ge/N]满足0.17<[Ge/N]<1.60的关系。
申请公布号 CN105492667A 申请公布日期 2016.04.13
申请号 CN201480047230.1 申请日期 2014.07.23
申请人 丰田自动车株式会社 发明人 白井嵩幸
分类号 C30B29/36(2006.01)I;C30B19/04(2006.01)I 主分类号 C30B29/36(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 李英
主权项 n型SiC单晶,其为包含锗和氮的n型SiC单晶,其中,所述锗与所述氮的密度比[Ge/N]满足0.17<[Ge/N]<1.60的关系。
地址 日本爱知县