发明名称 一种X射线抛物面反射镜表面镀高反膜的方法
摘要 本发明提出一种X射线抛物面反射镜表面镀高反膜方法,包括以下步骤:一.玻璃基片的清洗;二.用特定夹具夹持玻璃基片并烘烤;三.在玻璃基片上镀Cr膜;四.在Cr膜上镀Ir膜。本发明具有反射率高,靶材使用率高,膜层均匀,薄膜吸附力强等优点。
申请公布号 CN105481262A 申请公布日期 2016.04.13
申请号 CN201510943548.4 申请日期 2015.12.16
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 张颖;苑永涛;李海龙;程云涛;刘红;方敬忠
分类号 C03C17/09(2006.01)I 主分类号 C03C17/09(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种X射线抛物面反射镜表面镀高反膜的方法,其特征在于:包括以下步骤:1)将抛物面玻璃基片用玻璃清洗剂超声波清洗10~30min,再用丙酮超声波清洗10~30min,然后用无水乙醇超声波清洗10~30min,最后用去离子水超声波清洗10~30min并烘干;2)将抛物面玻璃基片用特定的夹具夹持,整个基片内表面无遮挡,置于磁控溅射镀膜机加热丝下方,抽真空至1.0×10<sup>‑4</sup>Pa~9.9×10<sup>‑4</sup>Pa,启动加热装置,100~300℃烘烤30min~3h;3)通入Ar气,待真空腔内气压达到0.1~3Pa时,将抛物面玻璃基片移动至Cr靶正上方,对Cr旋转靶施加直流电压300~500V,靶头转速4~15r/min,预溅射5~20min,打开挡板,开始向抛物面玻璃基片内表面镀膜1~5min;4)将抛物面玻璃基片移动至Ir靶正上方,真空腔内气压仍为0.1~3Pa,对Ir旋转靶施加直流电压300~600V,靶头转速4~15r/min,预溅射5~20min,打开挡板,开始向抛物面玻璃基片内表面镀膜10~20min;5)Ir沉积完毕后,关闭烘烤电源,待降至20~25℃时,即得到X射线抛物面反射镜表面膜层。
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