发明名称 柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用
摘要 本发明公开了一种柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用,制备方法包括以下步骤:(1)光掩膜版制备:将导电线栅光刻到光掩膜上;(2)电沉积模具制备:然后将线栅型光掩膜版进行紫外曝光,形成图形化线栅沟槽;(3)电沉积工艺:将金属基板放置于电铸沉积槽中,生成电沉积层;(4)生成柔性导电电极:将金属基板上涂布一层固化胶,柔性衬底覆盖于固化胶上,经过紫外固化后脱模,获得柔性导电电极。本发明制备的柔性导电电极的表面平整度只取决于所用金属基板材料的表面平整度,具有较高平整表面,制备的OLED装置不会因透明电极的表面起伏较大,引起背电极与基底相接触,造成短路而损毁,大大提升了使用寿命。
申请公布号 CN105489784A 申请公布日期 2016.04.13
申请号 CN201510906030.3 申请日期 2015.12.09
申请人 苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司 发明人 刘艳花;陈林森;浦东林;王艳艳;朱鹏飞;周小红;方宗豹
分类号 H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 H01L51/52(2006.01)I
代理机构 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人 张芹
主权项 一种柔性导电电极的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)光掩膜版制备:根据尺寸、形状、发光波长的要求,设计导电线栅,然后将导电线栅光刻到光掩膜上,经过显影、去铬后,获得线栅型光掩膜版;(2)电沉积模具制备:在金属基板上涂布一层光刻胶,然后将步骤(1)的线栅型光掩膜版进行紫外曝光,显影后在金属基板上形成图形化线栅沟槽,并使得图形化线栅沟槽部分显露出金属基板;(3)电沉积工艺:将步骤(2)光刻后的金属基板放置于电铸沉积槽中,使其位于电铸沉积槽的阴极,并在电铸沉积槽的阳极或电解液中放置沉积材料,通电后在图形化线栅沟槽中沉积生成电沉积层;(4)生成柔性导电电极:去除步骤(3)电沉积后的金属基板上的光刻胶,然后将金属基板上涂布一层固化胶,再将柔性衬底覆盖于固化胶上,经过紫外固化后脱模,获得柔性导电电极。
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