发明名称 |
一种硅异质结太阳能电池及其界面处理方法 |
摘要 |
本发明公开了一种硅异质结太阳能电池及其界面处理的方法,改进了异质结太阳能电池的界面处理方法,在沉积氢化非晶硅n膜层或氢化非晶硅p膜层前,对传送到其沉积腔室的氢化非晶硅i膜层进行氢等离子体界面处理,清除氢化非晶硅i膜层在沉积传送过程中再次产生的沾污,保证氢化非晶硅i膜层膜层与氢化非晶硅p膜层之间的界面以及氢化非晶硅i膜层膜层与氢化非晶硅n膜层之间的界面性能,提高电池性能。 |
申请公布号 |
CN105489669A |
申请公布日期 |
2016.04.13 |
申请号 |
CN201510846344.9 |
申请日期 |
2015.11.26 |
申请人 |
新奥光伏能源有限公司 |
发明人 |
李立伟;谷士斌;何延如;张林;张娟;徐湛;杨荣;孟原;郭铁 |
分类号 |
H01L31/0236(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0236(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种硅异质结太阳能电池的界面处理方法,其特征在于:S1、在氢化非晶硅i膜层的沉积腔室中沉积氢化非晶硅i膜层;S2、进行下述任一或任意组合的步骤:A对传送到氢化非晶硅n膜层的沉积腔室中的所述氢化非晶硅i膜层进行氢等离子体界面处理,在所述氢化非晶硅i膜层上沉积氢化非晶硅n膜层;B对传送到氢化非晶硅p膜层的沉积腔室中的所述氢化非晶硅i膜层进行氢等离子体界面处理,在所述氢化非晶硅i膜层上沉积氢化非晶硅p膜层。 |
地址 |
065001 河北省廊坊市经济技术开发区华祥路106号 |