发明名称 高电子迁移率晶体管及其制造方法
摘要 本发明提出一种高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistor,HEMT)及其制造方法。高电子迁移率晶体管包含:半导体层,其具有半导体层能带间隙;阻障层,形成于半导体层上,其具有阻障层能带间隙;压电层,形成于阻障层上,其具有压电层能带间隙,其中,压电层能带间隙、阻障层能带间隙、与半导体层能带间隙之间,相互间具有一部分相互重叠与另一部分相互不重叠;栅极,形成于压电层上,用以接收栅极电压,进而导通或不导通HEMT;以及源极与漏极,分别形成于栅极两侧;其中,于除压电层下方外的半导体层与阻障层的至少一部分接面,形成二维电子云(2-D electron gas,2DEG),且该二维电子云与源极及漏极电连接。
申请公布号 CN103579299B 申请公布日期 2016.04.13
申请号 CN201210282755.6 申请日期 2012.08.09
申请人 立锜科技股份有限公司 发明人 黄智方;邱建维;张庭辅;杨宗谕;黄宗义
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I 主分类号 H01L29/06(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 陈肖梅;谢丽娜
主权项 一种高电子迁移率晶体管,其特征在于,包含:一半导体层,该半导体层具有一半导体层能带间隙;一阻障层,形成于该半导体层上,并与该半导体层连接,该阻障层具有一阻障层能带间隙;一压电层,形成于该阻障层上,并与该阻障层连接,该压电层具有一压电层能带间隙,其中,该压电层能带间隙、该阻障层能带间隙、与该半导体层能带间隙之间,相互间具有一部分相互重叠与另一部分相互不重叠;一栅极,形成于该压电层上,用以接收一栅极电压,进而导通或不导通该高电子迁移率晶体管;以及一源极与一漏极,分别形成于该栅极两侧;其中,该压电层分别与该源极及该漏极之间,由该阻障层隔开,使得于除压电层下方外的半导体层与阻障层的至少一部分接面,形成一二维电子云,且该二维电子云与该源极及该漏极电连接。
地址 中国台湾新竹县竹北市