发明名称 | 栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置 | ||
摘要 | 本实用新型属于物理气相沉积领域,公开了一种栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置。该装置包括由电源Ⅰ供电的柱状阴极靶、由偏压电源供电的工件架,在柱状阴极靶前放置一个由电源Ⅱ供电的栅极。本实用新型将栅极与柱弧相结合,在提高薄膜结合力、光滑度的前提下保持了更高的薄膜沉积速率。 | ||
申请公布号 | CN205152318U | 申请公布日期 | 2016.04.13 |
申请号 | CN201520837539.2 | 申请日期 | 2015.10.27 |
申请人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明人 | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力;王健 |
分类号 | C23C14/32(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/32(2006.01)I |
代理机构 | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人 | 方晓佳 |
主权项 | 栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置,包括由电源Ⅰ(1)供电的柱状阴极靶(3)、由偏压电源(5)供电的工件架(6),其特征在于在柱状阴极靶(3)前放置一个由电源Ⅱ(2)供电的栅极(4)。 | ||
地址 | 730000 甘肃省兰州市城关区天水中路18号 |