发明名称 一种电化学抛光装置及使用该装置的电化学抛光方法
摘要 本发明公开了一种电化学抛光装置及使用该装置的电化学抛光方法,通过在电化学抛光工艺过程中,根据供电电源的电压变化反馈进行计算,根据计算结果控制连接第二喷嘴的摆臂的对应摆动,以沿晶圆边缘调整第二喷嘴相对第一喷嘴的位置,使电抛光回路中的电阻始终保持在初始值状态,负载变化小,从而可避免电化学抛光过程中因抛光电压变化而带来的工艺难控制的问题,有效提高了抛光后的片内均匀性,并降低了因高电压导致的工艺中断的概率。
申请公布号 CN105483815A 申请公布日期 2016.04.13
申请号 CN201510957746.6 申请日期 2015.12.18
申请人 上海集成电路研发中心有限公司 发明人 黄仁东
分类号 C25F7/00(2006.01)I;C25F3/30(2006.01)I 主分类号 C25F7/00(2006.01)I
代理机构 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人 吴世华;尹英
主权项 一种电化学抛光装置,其特征在于,包括:夹具,用于固定晶圆并带动其水平自转;第一、第二喷嘴,用于向晶圆表面的不同位置喷射电解液;摆臂,用于带动第二喷嘴沿晶圆边缘作水平圆弧摆动;移动支架,用于带动夹具、摆臂作同步水平移动,并使晶圆相对第一喷嘴作径向水平移动;供电电源,其阴极连接第一喷嘴、阳极连接第二喷嘴,通过由第一、第二喷嘴向晶圆喷射电解液,在供电电源、第一喷嘴、晶圆和第二喷嘴之间形成电抛光回路;在恒流条件下,所述供电电源根据电抛光回路中的电阻变化,产生对应的电压变化,并提供电压反馈;控制单元,根据电压反馈进行计算,并控制摆臂摆动,调整第二喷嘴在晶圆边缘相对第一喷嘴的位置,以使电抛光回路中的电阻回复至初始值。
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