| 发明名称 | 一种阵列结构及其制作方法、阵列基板和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列结构及其制作方法、阵列基板和显示装置，其中阵列结构包括栅电极和栅绝缘层，所述栅绝缘层和所述栅电极之间具有凹槽，所述栅电极下方的栅绝缘层经过曝光被刻蚀掉。本发明提供的阵列结构，栅电极以及信号接入端子对应的位置经过曝光工艺，刻蚀掉栅绝缘层，在栅电极和刻蚀剩余的栅绝缘层之间形成凹槽，由于凹槽的位置低于其它层结构，用以放置阵列测试或者点评测试等测试用的信号接入端子，通过这种凹槽的设计能够降低信号接入端子与显示区域的高度差，提高显示面板表面的平坦度，进一步提高取向的均匀效果，改善取向过程中由于高度差导致的取向差异产生的Mura不良现象，提高产品特性。 | ||
| 申请公布号 | CN103633101B | 申请公布日期 | 2016.04.13 |
| 申请号 | CN201310577779.9 | 申请日期 | 2013.11.15 |
| 申请人 | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 马俊才 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李迪 |
| 主权项 | 一种阵列结构，其特征在于，包括栅电极和栅绝缘层，所述栅绝缘层和所述栅电极之间具有凹槽，所述栅电极下方的栅绝缘层经过曝光被刻蚀掉；所述凹槽用于放置进行测试操作的信号接入端子。 | ||
| 地址 | 230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 | ||