发明名称 成膜装置
摘要 成膜装置具有:设有安装有靶的安装面的多个靶电极、及使所述基板保持在相对于所述多个靶电极的位置的基板支架、可旋转地设在所述多个靶电极及所述基板支架之间且具有旋转时相对于所述安装面的多个开口的第1挡板构件、及所述第1挡板构件的2个面之中被配置于所述靶电极侧的一个面上的所述第1挡板构件的开口之间的第1分离部、及配置于所述第1挡板构件及所述靶电极之间的第2分离部。驱动第1挡板构件使所述第1分离部及所述第2分离部相互接近,以便在所述第1分离部及所述第2分离部之间形成非直路径的方式,驱动第1档板构件使所述第1分离部及所述第2分离部相互分离以便使所述第1挡板旋转。
申请公布号 CN103635603B 申请公布日期 2016.04.13
申请号 CN201280031319.X 申请日期 2012.05.30
申请人 佳能安内华股份有限公司 发明人 梶原雄二;安松保志;小长和也
分类号 C23C14/34(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 蒋旭荣
主权项 一种成膜装置,其特征为,具有:设有安装有靶的安装面的多个靶电极;构造成将基板保持在与所述多个靶电极相对的位置的基板支架;可旋转地设在所述多个靶电极及所述基板支架之间且具有旋转时相面对于所述安装面的多个开口的第1挡板构件;所述第1挡板构件的2个面之中的一个面上被配置于所述靶电极侧的面上的第1分离部,第1分离部被布置在所述第1挡板构件的开口之间以便从第1挡板构件的中心径向延伸;及被配置于一构件上的第2分离部,该构件具有面对所述第1挡板构件的2个面之中的一个面的表面,第2分离部布置成径向延伸,其中,驱动所述第1挡板构件使所述第1分离部及所述第2分离部相互接近,以便通过所述第1分离部及所述第2分离部形成非直路径,驱动所述第1挡板构件使所述第1分离部及所述第2分离部相互分离,以便使所述第1挡板旋转。
地址 日本神奈川