发明名称 |
一种酸性纳米陶瓷抛光液 |
摘要 |
本发明提供一种酸性纳米陶瓷抛光液,包括按重量份计的以下组分:30-80份胶体二氧化硅、0.1-2份阻垢分散剂和20-70份水;所述胶体二氧化硅固含量为30-50%,粒径范围为5-80nm;所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上;所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2-4。该酸性纳米陶瓷抛光液pH值适宜,具有较高的稳定性,耐存贮,抛光速率快。 |
申请公布号 |
CN105482716A |
申请公布日期 |
2016.04.13 |
申请号 |
CN201510991866.8 |
申请日期 |
2015.12.23 |
申请人 |
佛山市纳铭精工科技有限公司 |
发明人 |
张中明 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 |
广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 |
代理人 |
唐超文;贺红星 |
主权项 |
一种酸性纳米陶瓷抛光液,包括按重量份计的以下组分:30‑80份胶体二氧化硅、0.1‑2份阻垢分散剂和20‑70份水;所述胶体二氧化硅固含量为30‑50%,粒径范围为5‑80nm;所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上;所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2‑4。 |
地址 |
528000 广东省佛山市南海区狮山穆院(土名:金子岗) |