发明名称 用于半导体封装的多功能膜及其制造方法
摘要 本发明公开了一种多功能膜及其制造方法,所述多功能膜包括:PO膜;PSA,形成在PO膜上;第一DAF,形成在PSA上;第二DAF,形成在第一DAF上,其中,第二DAF的弹性模量大于第一DAF的弹性模量。
申请公布号 CN103219296B 申请公布日期 2016.04.13
申请号 CN201310108693.1 申请日期 2013.03.29
申请人 三星半导体(中国)研究开发有限公司;三星电子株式会社 发明人 陈琦;刘江涛
分类号 H01L23/29(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I 主分类号 H01L23/29(2006.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人 韩芳;刘灿强
主权项 一种多功能膜,所述多功能膜包括:PO膜;PSA,形成在PO膜上;第一DAF,形成在PSA上;第二DAF,形成在第一DAF上,其中,第二DAF的弹性模量大于第一DAF的弹性模量,其中,第二DAF的弹性模量为1Gpa至9999Gpa,第一DAF的弹性模量为1Mpa至4999Mpa。
地址 215021 江苏省苏州市工业园区国际科技园科技广场7楼