| 发明名称 | 光照射装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种光照射装置，能够以高处理效率均匀地处理被处理物。本发明的光照射装置具备：被处理物支撑台，配置被处理物；紫外线灯，对被处理物的被处理面照射真空紫外线；以及光透射窗构件，配置在被处理物与紫外线灯之间，使来自紫外线灯的真空紫外线透射，光照射装置的特征在于，被处理物的被处理面与光透射窗构件之间所形成的间隙的距离被设为1mm以下，设置有向该间隙沿着该被处理面朝向一个方向供给处理气体的气体供给机构，在上述被处理物支撑台上的向上述处理气体的供给方向延伸、且不放置被处理物的区域，配设有遮风构件。 | ||
| 申请公布号 | CN105493235A | 申请公布日期 | 2016.04.13 |
| 申请号 | CN201480046358.6 | 申请日期 | 2014.09.09 |
| 申请人 | 优志旺电机株式会社 | 发明人 | 羽生智行 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 胡建新;朴勇 |
| 主权项 | 一种光照射装置，具备：被处理物支撑台，配置被处理物；紫外线灯，对上述被处理物的被处理面照射真空紫外线；以及光透射窗构件，配置在上述被处理物与上述紫外线灯之间，使来自该紫外线灯的真空紫外线透射，上述光照射装置的特征在于，上述被处理物的被处理面与上述光透射窗构件之间所形成的间隙的距离被设为1mm以下，设置有向该间隙沿着该被处理面朝向一个方向供给处理气体的气体供给机构，在上述被处理物支撑台上的向上述处理气体的供给方向延伸、且不放置被处理物的区域，配设有遮风构件。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||