| 发明名称 |
外延结构 |
| 摘要 |
本发明涉及一种外延结构，其包括：一基底，该基底具有一外延生长面，以及一外延层形成于所述基底的外延生长面，其特征在于，进一步包括一石墨烯层设置于所述外延层与基底之间。 |
| 申请公布号 |
CN103378237B |
申请公布日期 |
2016.04.13 |
| 申请号 |
CN201210122543.1 |
申请日期 |
2012.04.25 |
| 申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
发明人 |
魏洋;范守善 |
| 分类号 |
H01L33/02(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种外延结构，其包括：一基底，该基底具有一外延生长面，以及一外延层形成于所述基底的外延生长面，其特征在于，进一步包括一石墨烯层设置于所述外延层与基底之间，所述石墨烯层为具有多个开口的连续的整体结构体，所述石墨烯层的厚度为一个碳原子厚度。 |
| 地址 |
100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 |
