发明名称 一种脱细胞真皮基质及其制备方法和用途
摘要 本发明提供一种可以作为角膜修补材料的脱细胞真皮基质。所述脱细胞真皮基质包括乳头层,厚度为100~800μm;本发明还提供了一种脱细胞真皮基质的制备方法以及所述脱细胞真皮基质的使用前的处理方法。在本发明的在另一方面,提供了本发明所述的脱细胞真皮基质在制备角膜修补材料中的用途。本发明的脱细胞真皮基质具有透明角膜针对性,发明人比较了超薄脱细胞乳头层皮肤补片、人全层皮肤、全层角膜的切片,结果说明超薄脱细胞乳头层皮肤补片内细胞去除完全,保留的细胞外基质排列整齐,接近角膜纤维的排列。因此,本发明的脱细胞真皮基质可以作为角膜修补材料用于治疗和/或改善角膜变薄等眼部疾病。
申请公布号 CN104288837B 申请公布日期 2016.04.13
申请号 CN201410460693.2 申请日期 2014.09.11
申请人 杨淑珍 发明人 杨淑珍
分类号 A61L27/36(2006.01)I 主分类号 A61L27/36(2006.01)I
代理机构 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人 郭广迅
主权项 一种脱细胞真皮基质,其中,所述脱细胞真皮基质由真皮乳头层制备获得,并且所述脱细胞真皮基质的厚度为100~800μm,其中,所述脱细胞真皮基质来自人尸体皮肤。
地址 100074 北京市丰台区云岗北区镇岗南里22-402