发明名称 |
穿透式电子显微镜试片的制备方法 |
摘要 |
本发明公开一种穿透式电子显微镜试片的制备方法,包括下列步骤。对观察对象进行第一薄化处理,而在观察对象的预定观察区中形成具有耐化学处理的厚度的穿透式电子显微镜试片。在室温下对穿透式电子显微镜试片进行化学处理。对经化学处理的穿透式电子显微镜试片进行第二薄化处理,使穿透式电子显微镜试片具有供穿透式电子显微镜进行观察的厚度。从观察对象中取出穿透式电子显微镜试片。 |
申请公布号 |
CN105486553A |
申请公布日期 |
2016.04.13 |
申请号 |
CN201410477540.9 |
申请日期 |
2014.09.18 |
申请人 |
力晶科技股份有限公司 |
发明人 |
李文旭;田宜加 |
分类号 |
G01N1/28(2006.01)I;G01N1/44(2006.01)I |
主分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陈小雯 |
主权项 |
一种穿透式电子显微镜试片的制备方法,包括:对一观察对象进行一第一薄化处理,而在该观察对象的一预定观察区中形成具有一耐化学处理的厚度的一穿透式电子显微镜试片;在室温下对该穿透式电子显微镜试片进行一化学处理;对经该化学处理的该穿透式电子显微镜试片进行一第二薄化处理,使该穿透式电子显微镜试片具有一供穿透式电子显微镜进行观察的厚度;以及从该观察对象中取出该穿透式电子显微镜试片。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |