| 摘要 |
박막 전지의 층을 제조하는 방법은 스퍼터링 타겟을 제공하는 단계 및 플라즈마 공정의 결합으로 인해 향상된 물리 기상 증착 공정을 이용하여 기판 상에 층을 증착하는 단계를 포함한다. 증착 공정은, (1) 타겟과 기판 사이에 플라즈마를 발생시키는 단계; (2) 타겟을 스퍼터링하는 단계; (3) 플라즈마에 마이크로웨이브 에너지를 공급하는 단계; 및 (4) 기판에 무선 주파수 전력을 인가하는 단계를 포함한다. 박막 전지 캐소드층의 스퍼터링 타겟은, LiMNZ의 평균 조성을 가지며, a 내지 c는 0.20 > {b/(a+b)} > 0의 관계를 만족하고, a 대 c의 비율은 상기 캐소드층의 바람직한 결정 구조의 화학 양론비(stoichiometric ratio)와 거의 동일하며, N은 알칼리 토류 원소(alkaline earth element)이고, M은 Co, Mn, Al, Ni 및 V로 구성되는 그룹으로부터 선택되며, Z는 (PO), O, F 및 N으로 구성되는 그룹으로부터 선택된다. |
