偏向镜与包含此偏向镜之用于微影之投射曝光装置

摘要

明揭示一种用于微影投射曝光装置的偏向镜，该微影投射曝光装置藉由以切线入射来使用偏向镜以照射在该投射曝光装置之物体平面中的物体场。该偏向镜由基板及至少一个层系统组成，及在操作期间，光以多个入射角撞击在该偏向镜上，其中该层系统系设计成对于波长小于30 nm的光，对于55°及70°之间的入射角，反射率的变动小于20%，尤其小于12%。

主权项

一种用于一微影投射曝光装置的偏向镜，该微影投射曝光装置以切线入射来使用该偏向镜以照射在该投射曝光装置之一物体平面中的一物体场，该偏向镜包含一基板及至少一个层系统，其中在操作期间，光以多个入射角撞击在该偏向镜上，及其中该层系统系设计成对于波长小于30mm的光，及对于在55°及70°之间的入射角，反射率的变动小于20%；该偏向镜包含一第一层系统及一第二层系统，且该第二层系统横向上在该第一层系统旁边而涂覆在该基板上；其中在该第一层系统及该第二层系统之间的一边界线落在该偏向镜之一区域内，在该区域中在操作期间所用辐射之入射强度的最大值系在该偏向镜上所用辐射之最大入射强度的10%。