发明名称 |
感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜及图案形成方法 |
摘要 |
一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其包含(A)当曝露于光化射线或放射线时产生酸之化合物、(B)在酸作用下时在硷性显影剂中之溶解速率提高的树脂以及(C)疏水性树脂,其中所述疏水性树脂(C)含有衍生自任何以下通式(1)单体之重复单元。
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申请公布号 |
TWI529479 |
申请公布日期 |
2016.04.11 |
申请号 |
TW100135283 |
申请日期 |
2011.09.29 |
申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
山口修平;涉谷明规;饭塚裕介 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08G61/12(2006.01);C08J5/18(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文;叶璟宗 |
主权项 |
一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其含有(A)当曝露于光化射线或放射线时产生酸之化合物、(B)在酸作用下时在硷性显影剂中之溶解速率提高的树脂以及(C)疏水性树脂,其特征为所述疏水性树脂(C)含有衍生自任何以下通式(1)单体之重复单元,
其中R1各独立地表示氢原子、氟原子、具有1个至4个碳原子的烷基、具有6个至8个碳原子的芳基、具有1个至4个碳原子的烷氧基、羧基、酯基或磺醯基,R2各独立地表示氢原子、视情况氟化之具有1个至20个碳原子的烷基、视情况氟化之具有3个至20个碳原子的环烷基或视情况氟化之具有6个至20个碳原子的芳基,R3表示氧原子或单键,Rf各独立地表示视情况氟化之具有1个至8个碳原子的伸烷基或视情况氟化之具有6个至20个碳原子的伸芳基,
A表示,其中R:氢原子或甲基,B表示单键、视情况氟化之具有1个至9个碳原子的伸烷基、视情况氟化之具有10个碳原子的伸环烷基,其限制条件为所述伸烷基之碳原子视情况经氧原子部分置换,当B为单键或伸烷基时,m为1或2,且n为0至2之整数,满足关系式n=2-m。
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地址 |
日本 |