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经营范围
发明名称
基板处理装置用气化器
摘要
计的物品是基板处理装置用气化器,是在半导体制造装置中,将液体原料气化而生成用来处理被处理基板的处理气体所用之气化器。 本物品具体来说,当从形成为「」型的气化管上部的原料导入口滴下液体原料时,在受到加热的气化管内部的表面被气化。藉由气化所产生的气体,连同从设置于气化管的一端的载体气体导入口所导入的载体气体,一起从设置于气化管的另一端的排出口作为处理气体被排出。所排出的处理气体被供给到:载置于另外的反应容器内的处理基板。 图式中各视图中所表示的细线,用来表示立体表面的特定形状。
申请公布号
TWD174925
申请公布日期
2016.04.11
申请号
TW104304612
申请日期
2015.08.24
申请人
日立国际电气股份有限公司
发明人
分类号
15-99
主分类号
15-99
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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