发明名称 基板处理装置用气体供给喷嘴
摘要 计的物品是基板处理装置用气体供给喷嘴。 本衍生设计与原设计之外观差异在于:如各图所示,两者之尺寸大小略有所不同,因此本案与原设计案之差异些微,不影响原设计与衍生设计之近似。
申请公布号 TWD174920 申请公布日期 2016.04.11
申请号 TW104301010D01 申请日期 2015.02.26
申请人 日立国际电气股份有限公司 发明人
分类号 15-99 主分类号 15-99
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本