PARTIAL SPRAY REFURBISHMENT OF SPUTTERING TARGETS

摘要

다양한 실시양태에서, 표적 물질의 입자를, 다른 침식된 영역 (예를 들어, 덜 침식된 영역) 내에서의 분무-침착 없이 특정 영역 (예를 들어, 가장 깊은 침식 영역)을 적어도 부분적으로 충전하도록 분무-침착시킴으로써, 침식된 스퍼터링 표적이 부분적으로 보수된다. 부분적으로 보수된 스퍼터링 표적은 스퍼터링 특성 (예를 들어, 스퍼터링 속도) 및/또는 스퍼터링된 필름의 특성의 실질적 변화 없이 부분적 보수 후에 스퍼터링될 수 있다.