ANNEALING APPARATUS AND ANNEALING METHOD

摘要

본 발명의 실시예에 따른 어닐링 장치는 실리콘 함유 소스가스를 기판을 향하여 분사하는 분사부; 상기 실리콘 함유 소스가스를 배기하는 배기부; 상기 분사부에서 상기 배기부로 흐르는 상기 실리콘 함유 소스가스를 분해하는 플라즈마를 공급하는 플라즈마 공급부; 상기 플라즈마의 공급에 따라 상기 기판 상에 형성된 실리콘막에 대한 어닐링을 수행하는 어닐링부를 포함한다.