发明名称 POSITIVE RESIST COMPOSITION METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME AND FLUORINE-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND
摘要 알칼리 현상액에 대하여 분해성을 갖는 구성 단위 (f1) 을 블록 공중합 부위로서 포함하는 함불소 고분자 화합물 (F) 와, 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해성이 증대되는 기재 성분 (A) 와, 노광에 의해 산을 발생시키는 산발생제 성분 (B) 를 함유하는 포지티브형 레지스트 조성물.
申请公布号 KR101610391(B1) 申请公布日期 2016.04.07
申请号 KR20100060638 申请日期 2010.06.25
申请人 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 发明人 마츠미야 다스쿠;시오노 다이주;히라노 도모유키;다자이 다카히로
分类号 C08F214/18;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08F214/18
代理机构 代理人
主权项
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