发明名称 |
POSITIVE RESIST COMPOSITION METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME AND FLUORINE-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND |
摘要 |
알칼리 현상액에 대하여 분해성을 갖는 구성 단위 (f1) 을 블록 공중합 부위로서 포함하는 함불소 고분자 화합물 (F) 와, 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해성이 증대되는 기재 성분 (A) 와, 노광에 의해 산을 발생시키는 산발생제 성분 (B) 를 함유하는 포지티브형 레지스트 조성물. |
申请公布号 |
KR101610391(B1) |
申请公布日期 |
2016.04.07 |
申请号 |
KR20100060638 |
申请日期 |
2010.06.25 |
申请人 |
도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 |
发明人 |
마츠미야 다스쿠;시오노 다이주;히라노 도모유키;다자이 다카히로 |
分类号 |
C08F214/18;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F214/18 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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