发明名称 |
一种闪存器件 |
摘要 |
本发明公开的一种闪存器件,通过仅于漏端下方设置埋氧层,一方面利用二维电场的调制作用,使漏端附近的电场加强,电子空穴碰撞的几率增加,从而提高热载流子的产生几率,使得更多的电子变为热电子注入到浮栅中,极大的提高了器件的编程效率。另一方面碰撞电离产生的空穴可以通过埋氧层旁边的硅衬底流出去,从而避免了空穴的累积,彻底的消除了浮体效应,使器件的编程效率得到了稳定的控制。且由于本发明极大的提高了器件的编程效率,因此器件的编程电压可以降低,而较低的编程电压降低了电路的动态功耗,同时可以减弱漏端干扰的影响。 |
申请公布号 |
CN105470257A |
申请公布日期 |
2016.04.06 |
申请号 |
CN201410273594.3 |
申请日期 |
2014.06.18 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
齐瑞生;田志;陈广龙 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L29/788(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
吴俊 |
主权项 |
一种闪存器件,其特征在于,所述闪存器件包括存储单元阵列区,所述存储单元阵列区包括:第一衬底以及设置于所述第一衬底之上的第二衬底;位于所述第二衬底之上设置有若干存储单元,位于所述存储单元两侧的第二衬底内设置有源极和漏极;所述第一衬底的部分上表面还设置有一埋氧层,通过所述埋氧层将所述漏极和所述第一衬底予以隔离。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |