发明名称 一种闪存器件
摘要 本发明公开的一种闪存器件,通过仅于漏端下方设置埋氧层,一方面利用二维电场的调制作用,使漏端附近的电场加强,电子空穴碰撞的几率增加,从而提高热载流子的产生几率,使得更多的电子变为热电子注入到浮栅中,极大的提高了器件的编程效率。另一方面碰撞电离产生的空穴可以通过埋氧层旁边的硅衬底流出去,从而避免了空穴的累积,彻底的消除了浮体效应,使器件的编程效率得到了稳定的控制。且由于本发明极大的提高了器件的编程效率,因此器件的编程电压可以降低,而较低的编程电压降低了电路的动态功耗,同时可以减弱漏端干扰的影响。
申请公布号 CN105470257A 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201410273594.3 申请日期 2014.06.18
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 齐瑞生;田志;陈广龙
分类号 H01L27/115(2006.01)I;H01L29/788(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L27/115(2006.01)I
代理机构 上海申新律师事务所 31272 代理人 吴俊
主权项 一种闪存器件,其特征在于,所述闪存器件包括存储单元阵列区,所述存储单元阵列区包括:第一衬底以及设置于所述第一衬底之上的第二衬底;位于所述第二衬底之上设置有若干存储单元,位于所述存储单元两侧的第二衬底内设置有源极和漏极;所述第一衬底的部分上表面还设置有一埋氧层,通过所述埋氧层将所述漏极和所述第一衬底予以隔离。
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