发明名称 一种精密面型测量装置
摘要 本发明公开了一种精密面型测量装置,该装置包括光源、投影光栅、第一双远心系统、第二双远心系统、检测光栅组件、空间分光系统、第一探测器、第二探测器、处理单元。其中,该装置利用检测光栅组件将一个光栅莫尔条纹分裂为两个位相差恒定的莫尔条纹,并利用空间分光系统将该两个莫尔条纹从空间上完全分开,成像到一对探测器上,并根据第一莫尔条纹光强I<sub>1</sub>和第二莫尔条纹光强I<sub>2</sub>获得所述被测量物体表面高度。该装置对测量光强变化不敏感,提高了测量系统对被测量表面材料和工艺的适应性。
申请公布号 CN105466359A 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201511020844.3 申请日期 2015.12.30
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 宗明成;孙裕文;李世光
分类号 G01B11/25(2006.01)I 主分类号 G01B11/25(2006.01)I
代理机构 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人 房德权
主权项 一种精密面型测量装置,用于对待测物体表面进行形貌测量,其特征在于,所述待测物体放置在位移台上,其中,所述装置包括:光源,所述光源用于提供所述测量装置所需的照明光;投影光栅,所述投影光栅接收所述照明光后形成投影光栅像;第一双远心系统,所述第一双远心系统用于将所述投影光栅成像于所述待测物体表面上;第二双远心系统,所述第二双远心系统用于接收来自所述待测物体表面镜面反射后的所述投影光栅像;检测光栅组件,所述检测光栅组件用于接收来自所述第二双远心系统的所述投影光栅像,并将所述投影光栅像分裂为第一投影光栅像和第二投影光栅像;其中所述第一投影光栅像与检测光栅形成第一莫尔条纹,所述第二投影光栅像与检测光栅形成第二莫尔条纹,其中所述第一莫尔条纹和所述第二莫尔条纹为两个位相差恒定的莫尔条纹;空间分光系统,所述空间分光系统用于接收所述第一莫尔条纹和所述第二莫尔条纹,并将所述第一莫尔条纹和所述第二莫尔条纹在空间上分开;第一探测器,所述第一探测器用于接收第一莫尔条纹,并获得所述第一莫尔条纹的莫尔条纹光强I<sub>1</sub>;第二探测器,所述第二探测器用于接收第二莫尔条纹,并获得所述第二莫尔条纹的莫尔条纹光强I<sub>2</sub>;处理单元,所述处理单元用于根据所述莫尔条纹光强I<sub>1</sub>和所述莫尔条纹光强I<sub>2</sub>获得所述被测量物体表面高度。
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