发明名称 |
光照射装置及光固化材料处理装置 |
摘要 |
一种光照射装置及光固化材料处理装置,能够防止或抑制光照射到相邻的其他部位,能够实现装置整体的小型化。在假设将沿着铅垂方向延伸的轴设为Z轴的XYZ三维正交坐标系时,光源部由多个发光元件在同一平面上以发光面的中心位于X轴上的方式排列配置而构成,将包含多个发光元件的发光面的中心的XZ平面设为基准面,相对于基准面在Y轴负方向侧的位置,在X轴方向上延伸设置有具有使来自光源部的光指向Y轴正方向、且遮断指向Y轴负方向的光的功能的第一反射部,并且相对于基准面在Y轴正方向侧的位置,在X轴方向上延伸设置有具有对来自光源部的光及来自第一反射部的光进行反射以指向Y轴正方向的功能的第二反射部。 |
申请公布号 |
CN105465679A |
申请公布日期 |
2016.04.06 |
申请号 |
CN201510592128.6 |
申请日期 |
2015.09.17 |
申请人 |
优志旺电机株式会社 |
发明人 |
井上隆博 |
分类号 |
F21S8/00(2006.01)I;F21V7/00(2006.01)I;F21V33/00(2006.01)I;B41J11/00(2006.01)I;B29C67/00(2006.01)I |
主分类号 |
F21S8/00(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
胡建新;朴勇 |
主权项 |
一种光照射装置,具备具有多个发光元件的光源部,其特征在于,在假设将沿着铅垂方向延伸的轴设为Z轴的XYZ三维正交坐标系时,上述光源部由上述多个发光元件在同一平面上以发光面的中心位于X轴上的方式排列配置而构成,将包含上述多个发光元件的发光面的中心的XZ平面设为基准面,相对于该基准面在Y轴负方向侧的位置,在X轴方向上延伸设置有第一反射部,并且相对于该基准面在Y轴正方向侧的位置,在X轴方向上延伸设置有第二反射部,上述第一反射部具有使来自上述光源部的光指向Y轴正方向、且遮断指向Y轴负方向的光的功能,上述第二反射部具有对来自上述光源部的光及来自上述第一反射部的光进行反射以指向Y轴正方向的功能。 |
地址 |
日本东京都 |