发明名称 氧化物半导体层及其制造方法、以及氧化物半导体的前驱体、氧化物半导体层、半导体元件及电子装置
摘要 本发明的课题在于提供一种能够减少裂纹的生成且具有优异的电特性及稳定性的氧化物半导体层、及具有该氧化物半导体层的半导体元件与电子装置。本发明的解决手段在于提供一种氧化物半导体层的制造方法,包含以下工序:前驱体层的形成工序,其将氧化物半导体的前驱体在基板上或其上方形成为层状,其中该氧化物半导体的前驱体是将被氧化时成为氧化物半导体的金属的化合物分散在含有粘合剂的溶液中而成的,所述粘合剂包含脂肪族聚碳酸酯;及烧成工序,其在使该粘合剂的90wt%以上分解的第1温度将该前驱体层加热之后,在比该第1温度更高、而且为前述金属与氧键合、且差示热分析法(DTA)的放热峰值即第2温度(以X表示的温度)以上的温度烧成该前驱体层。
申请公布号 CN105474372A 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201480044072.4 申请日期 2014.07.04
申请人 国立大学法人北陆先端科学技术大学院大学;住友精化株式会社 发明人 井上聪;下田达也;川北知纪;藤本信贵;西冈圣司
分类号 H01L21/368(2006.01)I;C01G15/00(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I 主分类号 H01L21/368(2006.01)I
代理机构 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人 龚敏;王刚
主权项 一种氧化物半导体层的制造方法,包含以下工序:前驱体层的形成工序,将氧化物半导体的前驱体在基板上或其上方形成为层状,其中该氧化物半导体的前驱体是将被氧化时成为氧化物半导体的金属的化合物分散在含有粘合剂的溶液中而成的,所述粘合剂包含脂肪族聚碳酸酯,并可包含不可避免的杂质;以及烧成工序,在使该粘合剂的90wt%以上分解的第1温度将所述前驱体层加热后,在比所述第1温度更高、而且为所述金属与氧键合的温度、且为所述前驱体的利用差示热分析法DTA的放热峰值即第2温度以上的温度,烧成所述前驱体层。
地址 日本国石川县能美市旭台一丁目1番地