发明名称 钴靶材组件的制作方法
摘要 一种钴靶材组件的制作方法,所述方法包括:提供钴靶材,所述钴靶材的钴含量大于90%;利用化学镀工艺,在所述钴靶材焊接面上形成镍镀层;将化学镀处理后的钴靶材焊接至背板。采用本发明的技术方案,可以提供结合牢固度高的钴靶材组件。
申请公布号 CN103451606B 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201210182775.6 申请日期 2012.06.01
申请人 宁波江丰电子材料股份有限公司 发明人 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;潘靖
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C18/32(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种钴靶材组件的制作方法,其特征在于,所述方法包括:提供钴靶材,所述钴靶材的钴含量大于90%;利用化学镀工艺,在所述钴靶材焊接面上形成镍镀层;将化学镀处理后的钴靶材焊接至背板,所述背板的材质为铝或铝合金,焊接前,在所述铝或铝合金背板的焊接面也形成一层镍镀层;其中,在所述钴靶材焊接面与所述铝或铝合金背板的焊接面上形成镍镀层前还依次进行:对所述钴靶材与所述铝或铝合金背板表面进行喷砂工艺;对所述钴靶材与所述铝或铝合金背板表面进行活化处理,所述活化处理的活化剂为体积百分比是5%~15%的氢氟酸溶液;对所述钴靶材与所述铝或铝合金背板表面进行水洗处理步骤。
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