发明名称 |
一种制作砷化镓基HEMT器件背孔的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种制作砷化镓基HEMT器件背孔的方法,1)制作完成砷化镓基HEMT器件有源区;2)然后采用光刻、刻蚀的方法在化合物半导体衬底片正面形成背孔,并采用电镀等方式制作背金工艺,完成器件制作;3)将砷化镓衬底与临时衬底片进行粘附;4)对化合物基半导体衬底片进行减薄、抛光、直到化合物基衬底厚度减薄到100微米;5)采用等离子体刻蚀的方式,刻蚀衬底背面,直到背孔区域露出背金;6)最后在砷化镓背面电镀背金,完成砷化镓基 HEMT器件。 |
申请公布号 |
CN105470131A |
申请公布日期 |
2016.04.06 |
申请号 |
CN201511032303.2 |
申请日期 |
2015.12.30 |
申请人 |
东莞市青麦田数码科技有限公司 |
发明人 |
刘丽蓉;马莉;夏校军 |
分类号 |
H01L21/335(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/335(2006.01)I |
代理机构 |
广东莞信律师事务所 44332 |
代理人 |
吴炳贤 |
主权项 |
一种制作砷化镓基 HEMT器件背孔的方法,其包括如下步骤:(1)在砷化镓基外延材料层上制作完成HEMT器件有源区;(2)然后采用光刻、刻蚀的方法在化合物半导体衬底片正面形成所需封装器件的背孔,刻蚀到60‑100微米深,并采用电镀等方式制作背金工艺,完成器件制作;(3)在砷化镓半导体衬底片正面涂光刻胶;(4)在临时衬底片上涂抹高温蜡;(5)将砷化镓半导体衬底与临时衬底片进行粘附;(6)对砷化镓基半导体衬底片进行快速减薄、慢速减薄、抛光、直到化合物基衬底厚度减薄到100微米;(7)采用等离子体刻蚀的方式,刻蚀衬底背面,直到背孔区域露出背金;(8)将背面用稀盐酸清洗干净;(9)最后采用溅射法在背面溅射TiAu作为起镀金属,采用化学电镀的方法在背面电镀软金30微米,完成既有背孔背金,又有有源区热沉的GaAs HEMT器件。 |
地址 |
523000 广东省东莞市东城区主山东城中路南81号辉煌商务大厦6楼C10 |